CVD化学气相沉积金刚石,CVD金刚石,化学气相沉积!
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CVD 化学气相沉积金刚石
湖南锐特超硬材料工具有限公司批发供应CVD化学气相沉积金刚石,CVD(Chemical Vapor Deposition, 化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。经过CVD处理后,表面处理膜密着性约提高30%,防止高强力钢的弯曲,拉伸等成形时产生的刮痕。CVD金刚石是采用化学气相沉积的方法生长出来的一种多晶纯金刚石材料,它可以附着在基体的表面,也就是俗称的“金刚石薄膜”,也可以是独立的金刚石厚片(俗称金刚石厚膜)。CVD金刚石因不含任何金属或非金属结合剂,其多数性能和单晶金刚石类似或相同。因此被先进国家广泛应用于高功率密度电子器件的热沉(散热器件)、高精度切削刀具、高效率砂轮修整工具、耐磨器件等。和PCD刀具相比,CVD金刚石刀具具最大的优势是光洁度高、寿命长,缺点是抗冲击韧性略差。沃尔德公司采用国际一流的CVD金刚石厚膜材料和先进的焊接、刃磨工艺,制造多种CVD金刚石紧密切割刀具。用于加工铜、铝等有色金属或合金,可达到接近单晶刀具的高光洁度和超过任何粒度PCD刀具的长寿命。用于加工玻璃钢等,寿命远远超过任何品级的PCD刀具。
CVD是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术最初是作为涂层的手段而开发的,如今不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等。
CVD化学气相沉积金刚石的特点有淀积温度低,薄膜成份易控,膜厚与淀积时间成正比,均匀性,重复性好,台阶覆盖性优良。其技术特征在于:(1)高熔点物质能够在低温下合成;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层,而且可以在粉体表面涂层
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